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鐵電RAM的優(yōu)勢(shì)

來源:宇芯有限公司 日期:2020-05-07 10:23:44

隨著使鐵電存儲(chǔ)器FRAM的非揮發(fā)性,利用晶體的偏振提供了許多優(yōu)于基于電荷的存儲(chǔ)技術(shù)的優(yōu)點(diǎn)(見表1)。因?yàn)樗苊饬烁偶夹g(shù)的潛在的降解效果,F(xiàn)RAM存儲(chǔ)器和其保存數(shù)據(jù)的功率損耗的面能力的壽命幾乎是無限的。例如FRAM存儲(chǔ)器設(shè)備,如富士通半導(dǎo)體MB85R1001A和ROHM半導(dǎo)體MR48V256A所有指定10年的數(shù)據(jù)保持性能。下列表格是各類存儲(chǔ)器的比較。
 
  FRAM EEPROM FLASH SRAM
Memory Type Non-volatile Non-volatile Non-volatile Volatile
Write Method Overwrite Erase + Write Erase + Write Overwrite
Write Cycle Time 150 ns 5 ms 10 μs 55 ns
Read/Write Cycles 1013 106 105 Unlimited
Booster Circuit No Yes Yes No
Data Backup Battery No No No Yes

表1:FRAM與其它存儲(chǔ)器技術(shù)比較。 
 
鐵電RAM存儲(chǔ)由鐵電材料鋯鈦酸鉛的偏振的裝置,或PZT(Pb(上ZrTi)O 3),它被置于兩個(gè)電極類似的電容器的結(jié)構(gòu)之間的膜。與DRAM中,在FRAM中陣列的每一位被讀出和單獨(dú)寫入,但在DRAM的使用的晶體管和電容器來存儲(chǔ)比特,F(xiàn)RAM采用在晶體結(jié)構(gòu)中的偶極移引起的施加電場(chǎng)的相應(yīng)位跨電極(圖1)。因?yàn)樵撈袢匀皇侨サ綦妶?chǎng)之后,F(xiàn)RAM數(shù)據(jù)仍然存在無限期即使沒有可用功率 - 用于設(shè)計(jì)搭載不確定環(huán)境來源的重要能力。
 
富士通半導(dǎo)體FRAM細(xì)胞電場(chǎng)的圖像
 
圖1:在FRAM細(xì)胞,數(shù)據(jù)存儲(chǔ)為偏振引起的施加電場(chǎng)橫跨PZT膜的狀態(tài) - 一種方法,使擴(kuò)展的數(shù)據(jù)保留,并消除在浮柵技術(shù)中遇到的磨損。
 
通過省去了在浮柵存儲(chǔ)器技術(shù)所需電荷泵,F(xiàn)RAM可以在3.3V或更低的典型電源范圍內(nèi)工作。與存儲(chǔ)電荷的存儲(chǔ)器設(shè)備,F(xiàn)RAM裝置具有耐α粒子和通常表現(xiàn)出軟錯(cuò)誤率(SER)檢測(cè)極限以下。
 
 
關(guān)鍵詞:鐵電RAM
 

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